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      發酵罐CIP新概念,在CO2備壓下常溫低溫CIP清洗與消毒。D3-Top® C2
       一步酸性清洗和D3-Top® XX15消毒結合,使用方便,保護T541鍍層。
      • 在二氧化碳氣壓下進行清洗
      • 低溫一步酸洗、代替熱堿、縮短清洗時間
      • 去除“泡蓋”殘留沉積物、防止啤酒石的形成
      • 特別適合于低溫、常溫殺菌
      • 可重復使用、單耗低

     

 


 

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